- 加热炉设备
- 晶体及材料
- 破碎/球磨设备
- 压片设备
- 辊压设备
- 切割设备
- 磨抛设备
- 清洗设备
- 电池研发设备
- 薄膜制备
- 配件
- 其它实验室设备
氮化硅坩埚(Si3N4,外径50×内径40×高度65mm)
- 型号:
- CSiN-D50H65
- 产品概述:
- 氮化硅(Si3N4)坩埚采用气压烧结而成,具有良好的耐酸碱和弱碱腐蚀性能,如煮沸的盐酸、浓硝酸、王水、硫酸、浓度在25%以下的硫酸和氢氧化铝溶液。这种致密的氮化硅具有优异的抗氧化性,可在1400℃以下的氧化气氛中稳定使用。氮化硅材料对金属熔体也有良好的稳定性,不受湿,如熔融金属锌、金、银、铝、镉、铟、铅、铋、镓、锗等及其合金如黄铜、硬铝、镍银等均具有良好的耐腐蚀性。
免责声明:
本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅用于宣传用途,仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差,请勿复制或者截图。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息及更多参数,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,请勿将此参数用于招标文件或者合同,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您谅解。
如果您需要下载产品的电子版技术文档,说明书(在线阅览),装箱单,与售后安装条件等文件,请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户,购买前请与工作人员沟通,以免给您带来不便。
技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
材质
|
·Si3N4(纯度>99.99%)
|
坩埚尺寸
|
·外径50mm×内径40mm×高度65mm,容积~80ml
|
最高工作温度
|
·1400℃ (可在氧气环境下使用)
|
密度
|
·3.22 g/cm3
|
维氏硬度
|
·18-20GPa
|
热导率
|
·25W/m.K
|
免责声明:
本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅用于宣传用途,仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差,请勿复制或者截图。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息及更多参数,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,请勿将此参数用于招标文件或者合同,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您谅解。
如果您需要下载产品的电子版技术文档,说明书(在线阅览),装箱单,与售后安装条件等文件,请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户,购买前请与工作人员沟通,以免给您带来不便。